誘電体コーティングは屈折率が異なる層で構成されます。誘電体コーティングには主に、電子ビーム蒸着（E-beam），イオンアシスト蒸着（IAD），イオンビームスパッタリング（IBS）の3つの方法があります。コーティング物質を蒸発させ、基板に蒸着させる意味では原理的には同様です。異なるのは蒸着エネルギーです。

電子ビーム蒸着は低エネルギーのため、スポンジのように薄膜内に気泡や細孔があります。これらはいずれ水分で満たされるため、コーティングの屈折率、つまり光学的特性が変化することになります（“環境による変化”）。また、水分の存在は、オプティクスの損傷閾値の低下を招きます。強い光にさらされると、水分の蒸発時にコーティングの一部も剥がされます。結果的に、水分がなくなってもコーティング層が不均一になり、理論的損傷閾値が低下します。この蒸着法の利点は、低コストで、広く知られており、非常に多用途であることです。またコーティング自体もわずかに柔軟性があり、オプティクスの機械的ストレスの耐性を向上させます。

イオンアシスト電子ビーム蒸着は、その結果からもイオンビームスパッタリングとE-beamの中間と言えます。

イオンビームスパッタリングは、E-beamよりも100倍大きなエネルギーを持っています。そのため、コーティング層の分子は、蒸着時に共有結合を形成します。できたコーティングに気泡や細孔はなく、より均一で損傷閾値が高く、高繰り返し性の制御しやすいコーティングです。散乱および吸収特性もよく、全般的に高い仕様を示します（より広帯域，必要であればより狭いバンド幅，より高いスペクトル安定性…）。高精度のコーティングで、表面粗さを1ÅRMS以下、つまり<λ/5000以下に制御することができます。もちろん、コストも高くなり（原子をはじき出すのにとても時間がかかる）、コーティングの種類も制限される（ほとんどのUVコーティングで、スパッタ時にフッ素が解離してしまう：この場合はE-beamを利用）という欠点もあります。

弊社は各コーティングとも経験豊富で、様々な技術を駆使して行えるため、お客様の御要望に柔軟に対応することができます。Altechnaでご利用頂けるコーティングは以下の通りです。

・電子ビーム蒸着

・イオンアシスト蒸着

・イオンビームスパッタリング

必要なスペクトル感度や損傷閾値，硬度，表面品質などによって各方法を使い分けています。